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希爾材料-優(yōu)良清洗效果,用量少,無(wú)腐蝕,天然環(huán)保

熱門(mén)關(guān)鍵詞: 防銹清洗劑 多功能清洗劑 金屬表面油污清洗劑 工業(yè)清洗劑

  • 硅晶片線切割后清洗劑
硅晶片線切割后清洗劑

希爾硅晶片線切割后清洗劑由多種進(jìn)口表面活性、緩蝕劑及其它助劑配制而成的水基清洗劑,針對(duì)硅晶片切割后拋光后殘留的硅粉、殘膠,氧化物和油污特別研制。清洗后晶片表面無(wú)白班,花斑、腐蝕等不良,適用于各種半導(dǎo)體硅片與硅晶片切割后清洗。

應(yīng)用領(lǐng)域:主要用于太陽(yáng)能電池硅晶片切割加工后的清洗,以及半導(dǎo)體芯片、晶圓切割后的清洗。

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產(chǎn)品特點(diǎn)Product characteristics

硅晶片線切割后清洗劑應(yīng)用

√ 專用于硅晶片材質(zhì),潔凈度高

√ 清洗后表面無(wú)花斑,無(wú)白斑

√ 清洗效果好,無(wú)殘留,不影響導(dǎo)電性能

√ 原液濃度高,槽液壽命長(zhǎng),可循環(huán)使用

√ 水基安全,低泡型,易漂洗,無(wú)殘留

√ 符合voc指標(biāo)要求和歐盟RoHS認(rèn)證

專用硅晶片清洗  無(wú)花斑白斑  易漂洗  環(huán)保無(wú)味不傷手

理化指標(biāo)Physical and chemical indicators

外觀 無(wú)色至微黃色液體 密度 1.00-1.10g/L
pH 10.0-11.5(工作液) 安全 不可燃,無(wú)腐蝕
環(huán)保 無(wú)磷,不含鹵素,符合歐盟RoHS要求

工藝流程Process flow

工藝流程

注意事項(xiàng)Precautions for use

  • 使用方式

    恒溫清洗/超聲波清洗/平面線清洗

  • 使用方法

    按比例稀釋成工作液后,加熱至40-60度,超聲波清洗4-6分鐘。對(duì)于重污垢工件,延長(zhǎng)清洗時(shí)間或使用多槽多次方式徹底清洗干凈。

  • 工作液維護(hù)

    1、定期檢查槽液溫度、液位,及時(shí)補(bǔ)水及相應(yīng)比例補(bǔ)加原液。

    2、按規(guī)定時(shí)間定期更換槽液。

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希爾光學(xué)玻璃清洗劑是一種水基環(huán)保清洗劑,對(duì)于玻璃蝕刻、CNC、精雕、強(qiáng)化、鋼化、絲印、研磨、拋光、鍍膜前后等均可清洗,主要是洗玻璃上的切削液、硝酸鉀、拋光粉/液、油墨、瀝青、水垢、水印、灰塵、白點(diǎn)、霉點(diǎn)、指紋等各種臟污,以及平磨后的研磨粉與玻璃粉等,清洗良率達(dá)99%以上,潔凈度高,不發(fā)蒙。應(yīng)用領(lǐng)域:適用各種光學(xué)玻璃、光學(xué)零部件、石英玻璃、微晶玻璃、發(fā)電玻璃、導(dǎo)電玻璃、lcd與led、玻璃蓋板、藍(lán)寶石、鏡片等。
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希爾氧化鈰拋光粉清洗劑由多種進(jìn)口表面活性、緩蝕劑及其它助劑配制而成的水基清洗劑,針對(duì)玻璃拋光后殘留的氧化鈰拋光粉特別研制。對(duì)玻璃表面殘留的氧化鈰顆粒污垢有非常好的的螯合分散和清洗效果。具有對(duì)玻璃表面無(wú)腐蝕,劃痕少,無(wú)毒無(wú)污染,操作安全等優(yōu)點(diǎn)。廣泛用于硅酸鹽、硼酸鹽、磷酸鹽類型的光學(xué)玻璃清洗。應(yīng)用領(lǐng)域:專用于光學(xué)玻璃的拋光研磨后的清洗。

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